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由石英坩埚（或氧化铝坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片；也可用于烘烧或烧结陶瓷材料
炉膛尺寸：可定制
最高温度：1200度、1400度、1600度
工作温度：1100度、1300度、1600度
控温方式：智能化30段可编程自动控制
加热元件：含钼电阻丝
炉膛材料：氧化铝纤维
炉 壳：双层风冷结构
热 电 偶：K分度、S分度、B分度
升温速率：≤20度/分钟
恒温精度：±℃
最大真空度：根据客户要求
额定功率：根据客户要求