GWL系列高温电炉、真空电炉在靶材烧结技术方面发挥了巨大作用，气氛可调，电炉压力能够调，电炉控温精度高档等等长处，国内有的公司选用高本钱的热等静压技术，该技术能够强化压制和烧结进程，降低烧结温度，避免晶粒增大，以取得极好的物理力学性能，但存在制品出产本钱较高、 出产周期长，且产品很简单开裂，密度低一级缺陷。
有的选用气氛烧结法，在烧结进程中经过对烧结气氛的控制来取得高密度的ITO靶材。气氛烧结法能大批量接连出产，本钱较热压法低，设备投入也少，但对ITO粉体要求较高，还要有适宜的气氛烧结技术。
因为需求较高气氛压力，在高温下具有一定的危险性，烧结本钱也较高。常压烧结是其时日本ITO靶材烧结的干流技术，也是国内目前所竭力的方向，一些公司正在进行这方面的实验，还没有公司投入实习出产。
整体来看，目前国内ITO靶材出产通常都选用热等静压或冷等静压+气氛烧结的方法 ，产品质量不高，未打破下游行业r FT—LCD的要求方针，产品只限于出产低端的 T N导电玻璃和有些STN产品。