点击图片查看大图
CVD（D）系列高真空低温气氛管式炉专门设计用于低温CVD、石墨烯工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，进口电阻丝加热，优质气炼石英管炉膛,气体采用质量流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构，有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
一、技术指标：
设备型号： CVD(D)-06/50/2
最高温度： 1050℃
工作温度： RT～1000℃
炉管实际尺寸：Φ60（外径）×1750mm （高纯气炼石英）
加热区长度： 300mm+200mm
炉膛材料： 氧化铝、高铝、硅酸铝纤维制品
控制温区个数： 2个，K分度热偶
控温精度： ±1℃，日本进口单回路智能40段程序仪表控制，PID参数自整定
加热元件： FEC陶瓷纤维加热器，进口瑞典Kanthal发热丝
备注：其他特殊工艺要求的订货时请说明。
具体价格根据工艺要求不同价格不同。
具体请联系：张经理，0551-65583095 65583720 13866734967
具体请登陆合肥日新高温技术有限公司企业门户网站：www.risine.com
具体请登陆合肥日新高温技术有限公司企业门户网站：www.risine.com
可能您还对下列产品感兴趣:
高温炉 管式炉 钟罩炉 箱式炉 电阻炉 井式炉 热亚胺化炉 预氧化炉 碳管炉 马弗炉 网带炉 隧道炉 推板炉